【商品簡介】：

産品特點：
TG2U型光(guāng)刻機是制造中，大(dà)規模集成電路，傳感器，表面波元件，磁泡，微波和(hé)CCD等器件的(de)重要光(guāng)刻設備。
歡迎您聯系我們獲得(de)光(guāng)刻機(TG2U型)的(de)更多(duō)信息。

參數

适用(yòng)的(de)掩模尺寸

a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(選購(gòu))；

适用(yòng)的(de)矽片尺寸

φ35—75mm

光(guāng)刻圖形線條

3-4μm, 最細可(kě)達2μm

掩模與矽片之間的(de)相對(duì)位移範圍

X/Y±2.5mm,(族轉) ±6°

承片台(矽片)繞主軸旋轉

粗調360度,可(kě)微調

承片工作台綜合移動範圍

X,Y合成φ75mm

承片台的(de)球座平面至掩模闆面升降

0—7.5mm

曝光(guāng)燈源

GCQ200W超高(gāo)壓汞燈，曝光(guāng)波長(cháng)，300―436nm

曝光(guāng)系統能量不低于

7mw

曝光(guāng)系統的(de)照(zhào)度均勻度在φ75mm範圍内

±5％

顯微鏡的(de)照(zhào)明(míng)波長(cháng)

≈545nm

曝光(guāng)時(shí)間控制範圍

0.1秒—99分(fēn)

雙目顯微鏡的(de)放大(dà)倍數

a.目鏡共二種:10X,16X；b.平視場(chǎng)物(wù)鏡共三種:6X,9X,15X；c.合成放大(dà)倍率:60X—240X；

真空接觸壓力

≥0.7kgf

裝箱尺寸

1000X850X980mm(2隻)

裝箱重量

200kg